| 產品類別 | 細分 | 產品名稱 | 主要成分 | 主要應用領域 | 具體用途 |
| 通用濕電子化學品 | 單酸類 | 電子級磷酸 | H3PO4 | 集成電路、顯示面板 | 主要用于集成電路、顯示面板制造過程的蝕刻等工藝 |
電子級硫酸 | H2SO4 | 集成電路、顯示面板 | 主要用于集成電路、顯示面板制造過程的蝕刻、清洗等工藝 | ||
| 其他類 | 電子級雙氧水 | H2O2 | 集成電路 | 主要用于集成電路制造過程的清洗、蝕刻等工藝 | |
| 功能濕電子化學品 | 蝕刻液 | 硅蝕刻液 | H3PO4、H2SO4、HNO3、HF、NH4F | 集成電路 | 主要用于減薄、打毛、多晶硅蝕刻、氧化硅蝕刻等工 |
| 金屬蝕刻液 | H3PO4、H2SO4、HNO3、HF、CH3COOH、H2O2、I2、KI | 集成電路、顯示面板 | 主要用于金屬鎢、鋁、銅、鈷、鎳、銀、金、鈦等結構層的蝕刻工藝 | ||
| 清洗劑 | NMP、PGMEA、PGME、環戊酮 | 集成電路 | 主要用于硅晶圓非金屬膜層清洗或去除 | ||
| 顯影液 | KOH | 集成電路、顯示面板 | 主要用于顯影工藝，用于去除曝光后的光刻膠 | ||
| 薄膜液 | DMSO、 MEA、 NMP | 集成電路、顯示面板 | 主要用于光刻膠的剝離和清洗工 | ||
| 再生劑 | 按需定制 | 集成電路、顯示面板 | 主要用于特殊工序制作不達標時返工工藝 | ||
鄂公網安備 42050502000021號
